% 0期刊文章% % D J Biophys 2006% T DNA的机电合成纳米孔% B Jiunn亨%阿列克谢Aksimentiev % Ho, C %帕特里克标志着叶莲娜V Grinkova % % S Sligar %克劳斯舒尔腾% Gregory Timp % K生物物理学% K计算机模拟% K DNA % K电化学% K电磁场% K电泳% K电泳、琼脂凝胶% K氢离子浓度% K离子% K膜电位% K显微镜,电子,传播% K模型,分子% K纳米结构% K纳米技术% K核酸构象% K聚合酶链反应% K孔隙度% % X K硅化合物% K时间因素

我们已经探索DNA的机电性能在纳米范围内利用电场力单分子通过合成纳米孔在超薄氮化硅膜。在低电场E < 200 mV / 10海里,我们观察到,单链DNA可以渗透到毛孔直径> / = 1.0海里,而双链DNA只有渗透到毛孔直径> / = 3海里。毛孔< 3.0 nm直径,我们发现的渗透阈值取决于电场和双链DNA博士2 nm直径孔,电场阈值大约3.1 V / 10 nm pH = 8.5;阈值降低pH值酸化或直径增加。分子动力学表明,场阈值来源于伸展过渡在DNA发生力梯度纳米孔。降低pH值撼动了双螺旋结构,促进DNA易位在较低的领域。

% B Biophys J % V 1098 - 106 P % 90% 8 2006年2月1% G eng % N R 10.1529 / biophysj.105.070672 3%