拉伸DNA合成纳米孔中使用电场
DNA在段的力学性能与此种网站的大小(3 - 10海里)检查使用electric-field-induced易位的单分子通过纳米孔直径。DNA,沉浸在电解质,通过合成毛孔从0.5到1.5在半径10 nm厚Si (3) N(4)膜使用电场。占拉伸和弯曲,我们使用分子动力学模拟易位。我们发现易位的阈值,取决于孔隙的尺寸和应用跨膜的偏见。电压阈值伴随着伸展过渡60 pN附近发生在双链DNA。
DNA在段的力学性能与此种网站的大小(3 - 10海里)检查使用electric-field-induced易位的单分子通过纳米孔直径。DNA,沉浸在电解质,通过合成毛孔从0.5到1.5在半径10 nm厚Si (3) N(4)膜使用电场。占拉伸和弯曲,我们使用分子动力学模拟易位。我们发现易位的阈值,取决于孔隙的尺寸和应用跨膜的偏见。电压阈值伴随着伸展过渡60 pN附近发生在双链DNA。